Magnetronu izsmidzināšanas pārklāšanas mašīna

Magnetronu izsmidzināšanas pārklāšanas iekārta ir plazmas izsmidzināšanas tehnoloģija, ko kontrolē magnētiskais lauks. Magnetrona izsmidzināšanas pārklāšanas mašīnas darbības princips ir izmantot magnētisko lauku, lai kontrolētu plazmā esošās uzlādētās daļiņas, lai tā radītu augsta blīvuma plazmu uz mērķa virsmas, lai panāktu efektīvu izsmidzināšanas procesu. Magnetronu izsmidzināšanas pārklāšanas iekārta galvenokārt ietver vakuuma kameru, mērķa materiālu, substrātu, magnētiskā lauka sistēmu, gāzes padeves sistēmu un barošanas sistēmu. Izsmidzināšanas procesā vakuuma kamera vispirms tiek sūknēta augsta vakuuma stāvoklī un pēc tam tiek ievadīta inerta gāze (piemēram, argons). Elektriskā lauka iedarbībā argona gāze tiek jonizēta argona jonos un elektronos. Argona jons bombardē mērķa virsmu elektriskā lauka paātrinājuma ietekmē, izraisot mērķa atomu vai molekulu izsmidzināšanu. Tajā pašā laikā magnētiskā lauka iedarbībā elektroni ir saistīti netālu no mērķa virsmas, veidojot augsta -blīvuma plazmu, kas palielina izsmidzināšanas ātrumu. Izsmidzinātie mērķa atomi vai molekulas tiek nogulsnētas uz substrāta, veidojot plēvi. Magnetronu izsmidzināšanas pārklāšanas mašīnu var plaši izmantot mikroelektronikā, optoelektronikā, nanotehnoloģijā, jaunos materiālos un citās jomās, nodrošinot efektīvu un videi draudzīgu plēves sagatavošanas metodi mūsdienu rūpniecībai un zinātniskiem pētījumiem.

Magnetronu izsmidzināšanas pārklāšanas iekārtai ir unikāla pamattehnoloģija ar šādām priekšrocībām:

1. Ātrs nogulsnēšanās ātrums. Magnetronu izsmidzināšanas pārklāšanas iekārta var iegūt lielu jonu plūsmu, izmantojot ātrgaitas magnetrona elektrodu, kas efektīvi uzlabo nogulsnēšanās ātrumu un izsmidzināšanas ātrumu pārklāšanas procesā.

2, augsta jaudas efektivitāte. Magnetrona izsmidzināšanas iekārta parasti izvēlas piemērotu spriegumu, lai nodrošinātu, ka iekārta atrodas visaugstākajā efektīvajā jaudas efektivitātes diapazonā.

3. Zema izsmidzināšanas enerģija. Izmantojot zemu spriegumu, var novērst lielāku enerģiju lādētu daļiņu nokļūšanu uz pamatnes un izvairīties no izstrādājuma pamatnes deformācijas.

4. Salikts mērķa materiāls. Modulārs universāls interfeiss, kas ir tieši savietojams ar dažāda veida katoda mērķiem, ļaujot līdzstrāvas impulsa, IF, RF darba režīmu; Spēcīga saderība;

Plašs lietojumu klāsts. Ir daudz elementu, ko var nogulsnēt ar magnetrona izsmidzināšanas pārklāšanas mašīnu, parasti tie ir: Cu, Au, Cr, Ni, Ta, TiN, TiC, TiCN, TiAlN, CrN un citi metāli, nemetāla un keramikas oksīda plēves un kompozītmateriālu plēves;