Plānās plēves aprīkojums ar jonu-iztvaicēšanas palīdzību

Plānās plēves aprīkojums ar jonu-iztvaicēšanas palīdzību

Informācija
Rūpnieciskās -pakāpes jonu-iztvaikošanas (IAE) sistēma, kas integrē vairāku-kabatas elektronu-staru iztvaikošanu ar enerģētiskā jonu stara avotu (beigu-Hall vai Kaufman konfigurācija). Reālā laika jonu bombardēšana pārnes kinētisko impulsu uz kondensējošiem adatomiem, nomācot kolonnu graudu augšanu un virzot plānās-plēves blīvuma virzienā uz masveida materiāla vērtībām.
Produktu klasifikācija
Plānās plēves aprīkojums ar jonu-iztvaicēšanas palīdzību
 
Nosūtīt pieprasījumu
Apraksts
Tehniskie parametri

Rūpnieciskās -pakāpes jonu-iztvaikošanas (IAE) sistēma, kas integrē vairāku-kabatas elektronu-staru iztvaikošanu ar enerģētiskā jonu stara avotu (beigu-Hall vai Kaufman konfigurācija). Reālā laika jonu bombardēšana pārnes kinētisko impulsu uz kondensējošiem adatomiem, nomācot kolonnu graudu augšanu un virzot plānās-plēves blīvuma virzienā uz masveida materiāla vērtībām.


Konfigurēts pakešu apstrādei planētu rotācijas ķermeņos ar dubultu-PLC automatizāciju. Galvenās pielietošanas iespējas ietver augsta-lāzera-bojājumu-sliekšņa (LIDT) optisko traucējumu pārklājumus, blīvus dielektriskos filtru kopumus un izturīgus aizsargpārklājumus.

 

Tehniskās specifikācijas un procesa iespējas

 

Parametrs

Specifikācijas un procesa iespējas

Galīgais bāzes spiediens

<= 5.0 x 10^-5 Pa (clean, dry, empty chamber)

Sūkņa{0}}dīkstāves laiks

< 15 min from atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa

Kameras celtniecība

304L / 316L nerūsējošais tērauds; iekšējā elektropulēšana (Ra<= 0.4 um)

Elektronu stara avots

6 kW/10 kW daudz-kabatas slaucīšanas pistole (4–6 tīģeļi)

Jonu avota veids

Gala-Hall vai Kaufman plašā-gaisma; Enerģija: 50 - 300 eV; Strāva: 0 - 1000 mA

Pamatnes temperatūra

Apkārtējā temperatūra līdz 300 °C (+/- 2 °C PID slēgta-cilpas vienmērīguma kontrole)

Biezuma viendabīgums

<= +/- 1.0% across a 400 mm deposition zone (with planetary rotation)

Iekšējā stresa kontrole

<= +/- 50 MPa (Compressive/Tensile tunable via ion energy adjustment)

Refrakcijas indeksa atkārtojamība

Delta n<= +/- 0.001 verified over 50 consecutive production runs

Sistēmas pieejamība (darbspējas laiks)

>= 95% darbības pieejamība nepārtrauktā vairāku{1}}maiņu ražošanā

Vadības arhitektūra

Divkāršs-PLC rūpnieciskais kontrolieris ar aparatūras drošības bloķēšanu un recepšu pārvaldību

 

Galvenās iezīmes


Enerģētiskā jonu bombardēšana:Impulsa pārnešana reāllaikā novērš mikrotukšumus, stabilizējot refrakcijas indeksus pret mitruma-izraisītām spektrālajām nobīdēm.


Reaktīvā gāzes asiņošana:Kontrolēta O2 vai N2 daļējā spiediena iesmidzināšana kompensē skābekļa deficītu oksīda/nitrīda nogulsnēšanās laikā, noņemot sub-oksīda absorbcijas joslas.


Moduļu avota komplekts:Kasešu-stila jonu avota režģa nomaiņa un maināmās E-staru kabatas samazina kameras ventilācijas-līdz -vakuuma atjaunošanas laiku līdz mazāk nekā 2 stundām.


Vakuuma integritāte:Metāla-noblīvēti un Viton-noblīvēti ISO/CF atloki, kas savienoti pārī ar pneimatiskajiem aizbīdņa vārstiem, novērš šķērs{2}}piesārņojumu starp partijām.

 

Vakuuma sistēmas konfigurācija


Rupjdarba komplekts:Sakņu pūtējs, ko atbalsta rotācijas lāpstiņa vai{0}}eļļas nesaturoši hermētiski ritināmi mehāniski sūkņi.


Augsts{0}}vakuuma sūknis:Cryogenic pump (cryopump) or magnetically levitated turbomolecular pump (air throughput >= 2200 L/s).


Spiediena mērīšana:Pirani un karstā{0}}katoda jonizācijas mērinstrumenti nepārtrauktai reģistrēšanai no atmosfēras līdz augstam vakuumam.


Procesa spiediena regulēšana:Slēgts{0}}cilpas kapacitātes manometrs, kas vada automatizētu droseļvārstu gāzes iesmidzināšanas laikā.

 

Iztvaikošanas materiālu un substrāta saderība


Iztvaikošanas materiāli:
Oksīdi:
SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, HfO2
Fluorīdi:MgF2, LaF3
Metāli:Au, Ag, Al, Cr, Ti


Pamatnes materiāli:
Optiskais stikls (BK7, kausētais silīcija dioksīds, kvarcs)


Pusvadītāju vafeles (silīcijs, gallija arsenīds)


Kristāli (LiNbO3, safīrs, YAG)


Armatūras ģeometrija:Pielāgoti planētu rotācijas būri, kupola armatūra un plakani{0}}plākšņu turētāji, kas izstrādāti konkrētiem partijas apjomiem.

 

Lietojumprogrammas un empīriskās veiktspējas pierādījumi


Lāzera traucējumu filtri:Šaurjoslas un malu filtri, kuriem nepieciešama ekstinkcijas attiecība ar bloķēšanas dziļumu > OD6 pie 1064 nm.


Pret-atstarojošie (AR) pārklājumi:Daudzslāņu platjoslas AR pārklājumi lieljaudas-lāzera logiem un kameru optikai.


Priekšējie spoguļi:Metāla atstarotāji ar zemu-izkliedi, kas aizsargāti ar cietu dielektrisku pārklājumu kosmosa un aizsardzības instrumentiem.


Pusvadītāju dielektriskie slāņi:Pasivējošas un izolējošas dielektriskās plēves uzklāšana uz temperatūras{0}}jutīgiem substrātiem.

 

Pielāgošana


Kameras izmēri:Iekšējais diametrs ir no 700 mm līdz 1300 mm.


Avota integrācija:Divu E-staru uzstādījumi, termiskās pretestības avoti vai kop-nogulsnēšanas konfigurācijas.


Automatizācijas līmenis:Pusautomātiska manuāla ielāde vai pilnībā integrēta robotizēta substrāta apstrāde ar slodzes-fiksatoriem.


Atbilstība:CE, UL/CSA elektriskie paneļi un SEMI S2/S8 drošības atbilstības paketes.

 

Kvalitātes kontrole un rūpnīcas verifikācija


Noplūdes noteikšana:Masas spektrometra hēlija noplūdes pārbaude visām kamerām un blīvēm līdz < 1 x 10^-10 Pa*m^3/s.


Izmēru pārbaude:Iekšējo montāžas atloku un optiskās profilometrijas CMM pārbaude, kas apstiprina kameras sienu raupjumu (Ra<= 0.4 um).


Burn{0}}Pārbaudē:Vakuumsūkņu, augstsprieguma barošanas avotu un PLC bloķēšanas cilpu 72-stundu nepārtrauktas sausas darbības{2}}pārbaude.


Procesa pieņemšanas pārbaude (FAT):Standarta pārklājuma gaita, pārbaudot nogulsnēšanās ātruma stabilitāti un refrakcijas indeksa mērķus saskaņā ar iepriekš saskaņotajiem{0}}kritērijiem.

 

Uzstādīšana un tehniskais atbalsts


Pirms-instalēšanas norādījumi:Izkārtojuma rasējumi, kas aptver atdzesētu ūdeni, izplūdes ventilāciju, elektriskās slodzes un grīdas svaru.


Uz-Nodošana ekspluatācijā:Mehāniskās izlīdzināšanas, noplūžu pārbaužu, komunālo pakalpojumu savienojumu un kopīgās SAT pārbaudes lauka inženiertehniskā izpilde.


Procesa apmācība:Operatora un apkopes apmācība, kas aptver recepšu programmēšanu, jonu avotu apkalpošanu un sūkņa reģenerāciju.


Dzīves cikla atbalsts:Attālās diagnostikas saskarnes integrācija un lokalizēta rezerves daļu krājumu pārvaldība.

 

FAQ

 

J: Kā jonu palīdzība novērš optiskā viļņa garuma maiņu?

A: Enerģētiskā jonu bombardēšana sablīvē plēves struktūru, pārnesot impulsu uz adatomiem, novēršot mikroskopiskus tukšumus. Tas novērš atmosfēras mitruma absorbciju, bloķējot refrakcijas indeksu un pārraides spektru stabilitāti.

J: Kāds ir jonu avota apkopes protokols un dīkstāves laiks?

A. Bezrežģa gals-Hal jonu avotiem ir nepieciešama iekšējā komponentu pārbaude ik pēc 200–300 procesa stundām. Kasešu-stila ātrās-maiņas dizains ļauj tehniķiem nomainīt vai apkalpot jonu optiku un atgriezt kameru vakuumā 2 stundu laikā.

J: Vai sistēma var integrēt gan QCM, gan optisko uzraudzību?

A: Jā. Divkāršās{1}}uzraudzības konfigurācijas izmanto QCM sākotnējo bāzes slāņa ātrumam un optisko uzraudzību (OMS), lai izsekotu pārraides/atstarošanas galējībām precīzai ceturkšņa-viļņu slāņa izbeigšanai.

J: Kādas ir galvenās lietderības prasības standarta 900 mm kamerai?

A: 3-phase power (380V / 480V, 50/60 Hz), chilled cooling water (~ 15 to 20 deg C at 4 - 6 bar), compressed air (>= 0.6 MPa) un 99,999% tīras procesa gāzes (Ar, O2), kas regulētas ar 0.2 - 0.3 MPa.

 

Populāri tagi: jonu-iztvaikošanas plānas plēves aprīkojums, Ķīna jonu-iztvaicēšanas palīgkārtas iekārtu ražotāji, piegādātāji, rūpnīca

Nosūtīt pieprasījumu
Sazinieties ar mumsja jums ir kādi jautājumi

Jūs varat sazināties ar mums pa tālruni, e-pastu vai tiešsaistes formu zemāk. Mūsu speciālists tuvākajā laikā ar jums sazināsies.

Sazinieties tagad!