PVD Composite Thin Film Equipment ir rūpnieciska vakuuma platforma, kas paredzēta daudzslāņu, sakausējuma un šķiroto plānās plēves sintezēšanai. Izgatavots uz modulāras 304L/316L nerūsējošā tērauda arhitektūras, tas integrē līdz pat četriem neatkarīgiem nogulsnēšanas avotiem-tostarp līdzstrāvas/RF magnetronu izsmidzināšanu, elektronu staru iztvaikošanu un termiskos avotus-vienā piesārņojuma-kontrolētā kamerā. Sistēma nodrošina precīzu plēves mikrostruktūras, atlikušā sprieguma un kompozīcijas gradientu kontroli ražošanas līnijām un progresīvai pētniecībai un attīstībai.
Tehniskās specifikācijas
|
Parametrs |
Specifikācija |
Standarta/stāvoklis |
|
Galīgais bāzes spiediens |
<= 5.0 x 10^-6 Pa |
Cryo/Turbo atbalstīts |
|
Darba spiediens |
0,1 līdz 5,0 Pa |
Atkarīgs no procesa |
|
Substrāta ietilpība |
φ300 mm vafeles vai 400 x 400 mm substrāti |
Pieejamas pielāgotas paletes |
|
Biezuma viendabīgums |
<= ±2% |
Mērīts visā substrāta laukumā |
|
Pamatnes temperatūra |
Telpas temperatūra līdz 800 grādiem |
Slēgta{0}}cikla PID kontrolēta |
|
Nogulsnēšanas ostas |
4 neatkarīgi moduļu sloti |
Sputter/E{0}}beam konfigurējams |
|
Kameras celtniecība |
304L / 316L nerūsējošais tērauds |
Electro{0}}pulēts, Ra<= 0.2 μm |
|
Strāvas sadale |
Līdzstrāva, RF (13,56 MHz), impulsa līdzstrāva, nobīde |
PLC drošības bloķēšana |
Galvenās iezīmes
Modulārā vairāku{0}}avotu arhitektūra:Izpilda secīgu vai kop{0}}nogulsnēšanos no līdz pat četriem avotiem vienā vakuuma ciklā.
Īpaši-tīra vakuuma integritāte:Izmanto metāla-noblīvētus CF atlokus, pneimatiskos aizbīdņu vārstus un bezeļļas-apstrādāšanu/turbomolekulāro sūknēšanu, lai novērstu ogļūdeņražu piesārņojumu.
Dinamiskā substrāta nobīde:Mainīgas frekvences RF/DC nobīde kontrolē ienākošo jonu enerģiju, lai regulētu plēves blīvumu, cietību un spriegumu.
Automatizēta recepšu kontrole:Rūpnieciskais PLC un HMI glabā līdz 200 procesa profiliem, automatizējot sūkņa-nolaišanu, aizvaru iedarbināšanu un ventilāciju.
In-Situ uzraudzības porti:Iepriekš-konfigurētie atloki ir piemēroti QCM biezuma sensoriem un optiskās emisijas spektrometriem (OES).
Vakuuma un gāzes apakšsistēmas
Sūknēšanas skurstenis:Eļļas-sūkņi, kas nesatur saknes/skrūves rupjmašīnas, kas savienoti pārī ar magnētiski levitētiem turbo sūkņiem vai kriosūkņiem, sasniedz 5 x 10^-6 Pa no atmosfēras 45 minūšu laikā.
Gāzes piegāde:Masas plūsmas kontrolieri (MFC) regulē Ar, O2 un N2 ar ±1% pilnas skalas precizitāti; integrētie attīrītāji uztur 99,9999% gāzes tīrību.
Siltuma vadība:Kameras korpusiem ir dubulti{0}}sienu ūdens-dzesēšanas kanāli, lai stabilizētu konstrukcijas izmērus augstas -temperatūras darbības laikā.
Materiālu un substrātu saderība
Atbalstītie materiāli
Metāli:Ti, Cr, Al, Cu, Au, Pt, NiCr, TiAl
Dielektriķi/oksīdi:SiO2, TiO2, Al2O3, Si3N4
Cietie pārklājumi:TiN, TiCN, CrN, DLC starpslāņi
Substrāta saderība
Silīcija vafeles (φ100 mm līdz φ300 mm).
Kausēti silīcija dioksīda, kvarca un keramikas optiskie substrāti.
Instrumentu tēraudi un titāna sakausējumi, kam nepieciešama iepriekšēja-attīra RF plazmas kodināšana.
Lietojumprogrammas
Pusvadītājs:Barjeras slāņi, sēklu slāņi un savstarpēji savienojami metāla skursteņi.
Optika:Optisko traucējumu filtri, pret{0}}atstarojošie (AR) pārklājumi un spoguļi ar augstu{1}}atstarotāju.
Nodiluma aizsardzība:Daudzslāņu cietie pārklājumi griešanas instrumentiem un kosmosa komponentiem.
Enerģijas uzglabāšana:Plānas plēves cietvielu{0}}akumulatoru elektrolītiem un strāvas savācējiem.
Pielāgošana
Kameras ģeometrija:Mainiet iekšējos izmērus vai portu leņķus, lai tie atbilstu mantotajai aparatūrai vai cimdu nodalījuma dokiem.
Avota adaptācija:Integrējiet īpašus e{0}}staru lielgabalu vērtējumus, magnetronu garumus vai termiskās laivas.
Programmatūras integrācija:Konfigurējiet PLC loģiku, lai tā atbilstu iekārtas SCADA protokoliem vai SECS/GEM standartiem.
Kvalitātes kontrole
Noplūdes noteikšana:Hēlija masas spektrometra pārbaude pārbaudīta līdz 1 x 10^-10 Pa·m³/s.
Elektriskā drošība:Zemes nepārtrauktība, izolācijas pretestība un E{0}}pārtraukšanas verifikācija atbilstoši CE/NFPA standartiem.
Pirms-nosūtīšanas:Rūpnīcas testa uzklāšana pārbauda bāzes spiedienu, avota stabilitāti un biezuma vienmērīgumu; datu lapas tiek piegādātas kopā ar ierīci.
Uzstādīšana un atbalsts
Dokumentācija:Pilnīgas elektriskās shēmas, P&ID diagrammas, PLC ekspluatācijas rokasgrāmatas un kalibrēšanas sertifikāti.
Rūpnīcas pieņemšana (FAT):Klientu pārbaude un apstiprināšana notiek mūsu ražošanas telpā pirms kastes ievietošanas.
Nodošana ekspluatācijā (SAT):Lauka inženieri uzrauga mehānisko izlīdzināšanu, utilītu savienojumus un{0}}pieņemšanas pārbaudi uz vietas.
FAQ
J: Kāds ir standarta sistēmas izpildes laiks?
A: 16 līdz 24 nedēļas atkarībā no kameras tilpuma, avota daudzuma un pielāgotajām automatizācijas prasībām.
J: Vai sistēma var pārslēgties starp RF izsmidzināšanu un E{0}}staru iztvaikošanu, nepārtraucot vakuumu?
A: Jā. Vairāku-portu arhitektūra nodrošina automātisku secīgu nogulsnēšanos dažādos avotos nepārtrauktā vakuumā.
J. Kādi utilītu savienojumi ir nepieciešami vietnē-?
A: 3-fāzu maiņstrāva, slēgta cikla atdzesēts ūdens (18 grādi līdz 22 grādi), saspiests gaiss (0,6 MPa) un īpašas procesa gāzes līnijas.
J: Kā apstrādes laikā tiek regulēta substrāta temperatūra?
A. Substrāta turētājos tiek izmantoti iegulti termopāri vai optiskie pirometri, kas ir savienoti ar slēgta -cilpas PID sildītājiem un aizmugures gāzes vadīšanas dzesēšanu.
Populāri tagi: pvd kompozītmateriālu plānās plēves iekārtas, Ķīnas pvd kompozītmateriālu plāno plēvju iekārtu ražotāji, piegādātāji, rūpnīca
